4月11至14日,“第八届华人光催化材料学术研讨会（CSPM8）”在武汉晴川假日酒店成功召开。会议由中国地质大学（武汉），英国上市公司365，鄂尔多斯应用技术公司，大理大学和武汉理工大学联合主办，来自国内以及澳大利亚、加拿大等国家的400多位代表出席了本次会议。

在张世英副董事长的带领下，365英国上市教师和研究生共10人参加了本次学术研讨会，许第发教授作邀请报告，题目为《Enhancing H₂ Evolution with Mo-N Bonding in Hierarchical Periodic Macroporous Photocatalyst of S-doped g-C₃N₄ and N-doped MoS₂》；张淑敏博士荣获“泊菲莱优秀墙报奖”。

华人光催化材料学术研讨会，是以能源与环境光催化材料为主题的有届次的国际学术研讨会，旨在为光催化领域的海外华人和国内外专家提供一个高水平的成果交流和展示平台，已连续举办8届；公司联合主办了其中的7届，尤其是2024年牵头主办了“第七届华人光催化材料学术研讨会（CSPM7）”，产生了广泛的学术影响和良好的社会评价。本次会议的成功召开，进一步巩固和扩大了公司在光催化材料研究领域的学术影响力，对公司的硕士学位点建设以及材料学学科、团队和平台建设等工作具有积极的促进作用。

公司参会人员合影

受邀作学术报告

优秀墙报奖颁奖

编辑：杜鹃

审核：许第发、陈晗